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查看: 1685|回复: 4

[求助] 求助:转工艺后RF的器件lvs不认??

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发表于 2017-9-11 17:33:22 | 显示全部楼层 |阅读模式

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微信图片_20170911171146.png 微信图片_20170911172654.png
想问问上面报的warning都是什么意思??要怎么解决?
我用的是dnw25od33_ckt_rf这个器件,是从TSMC转到SMIC工艺的,每个工艺层都能对应上,并且分别用TSMC和SMIC的这个器件run lvs的时候都能过,但是转了之后就不行了
求大神指点,蟹蟹!!
微信图片_20170911171058.png
发表于 2017-9-12 16:12:10 | 显示全部楼层
是不是lvs command file文件里的一些定义问题  你可以查一下!
 楼主| 发表于 2017-9-13 13:51:58 | 显示全部楼层
回复 2# a345720726


   我看过了,应该不是这个问题,而且我用工艺库里调的器件run lvs都不会报错
发表于 2017-9-14 15:10:29 | 显示全部楼层
我用的是dnw25od33_ckt_rf这个器件,是从TSMC转到SMIC工艺的,每个工艺层都能对应上,并且分别用TSMC和SMIC的这个器件run lvs的时候都能过,但是转了之后就不行了” 这句话没看懂。什么叫分别都能过,分别如果用各自PDK原来的器件当然能过。转换是指layer mapping过去嘛?


我看warn提示 dnw_IO2_over_rf 这个层次是在LVS识别RF器件时候使用的,但是你转完以后它识别出错。所以两个工艺在器件定义的时候用的层次不一样。这是我猜的。



发表于 2017-9-15 17:50:15 | 显示全部楼层
肯定是你转错了呗,分别都能过,分别过不了那这两家就别干了。
肯定是定义的mark layer不一样
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