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楼主: 叶落

[求助] MOS管上的gate可以打孔么?

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发表于 2017-5-26 16:13:08 | 显示全部楼层
回复 1# 叶落


    这是严格禁止的
发表于 2017-5-26 16:13:31 | 显示全部楼层
某些工艺确实支持这样的做法,增加了阻挡层
发表于 2017-5-26 16:14:56 | 显示全部楼层
回复 11# xiaoyunbaixue
不是所有工艺都是禁止的
 楼主| 发表于 2017-5-26 23:28:11 | 显示全部楼层
回复 10# kevin_l


   感谢大神回帖,get了新技能,开心,赞!!!
发表于 2017-6-23 18:00:05 | 显示全部楼层
回复 6# kevin_l


   我现在也看到一个这样的照片,百思不得其解,现在懂了,谢谢但还是想问一下,是nmos和pmos的gate上都允许打cont吗?可以为什么只有一两个管子是这样画的,其它管子还是伸出来在poly上打孔,这样不是没有省到面积吗?能弱弱地问一下是哪家工艺这么牛吗
发表于 2017-6-24 00:49:48 | 显示全部楼层
看工藝決定可不可以,如果DRC , LVS 報錯,就不行!
发表于 2017-6-24 10:07:48 | 显示全部楼层
回复 15# m13728838513
是的,NMOS PMOS gate都可以打孔,但是只在特定区域才这么做,那个区域集成度相当高,其他区域还是在active外打poly ct,因为会减少成本,至于工艺线不好明说,涉及到专利的
发表于 2017-6-26 13:40:57 | 显示全部楼层
回复 17# kevin_l


   好的,非常感谢!
发表于 2017-7-8 17:31:27 | 显示全部楼层
这要看工艺,只要在poly和diff中间加一层隔离层就可以
发表于 2017-7-8 18:18:07 | 显示全部楼层
回复 3# maomao198477


    请教下在里面打孔为什么会把gate和active连起来呢,active在poly下面,contact在poly上面,poly和active之间还有栅氧隔开的,怎么会连在一起?
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