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查看: 1166|回复: 4

[讨论] 关于double pattern的疑问

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发表于 2021-8-12 11:42:21 | 显示全部楼层 |阅读模式

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1.为什么先进工艺 cell 出 pin 更加密集?比如7nm,11nm
2.DPT 的最小spacing ,看到ME2是: minSpacing = 0.024u,其 DPTminSpacing = 0.072u  (side2side),为什么DPTminSpacing要比minSpacing大?

发表于 2021-8-12 14:56:14 | 显示全部楼层
看到你头像又见面了哈哈哈哈
 楼主| 发表于 2021-8-12 15:43:38 | 显示全部楼层


搓芯片的酋长 发表于 2021-8-12 14:56
看到你头像又见面了哈哈哈哈


前辈好,看到您之前好像回复过我的一个帖子,感谢
发表于 2021-8-12 16:27:48 | 显示全部楼层
问题的信息有点少,所以猜一猜答案。
问题1,单纯的因为cell面积更小?所以pin密度大
问题2,double pattern的space比single pattern的space更大,是为了控制pitch。根据pitch反推回去,ME2的最小width应该就是24nm把?
然后没怎么看懂minSpacing和DPTminSpacing的关系(为啥会同时存在single pattern和double pattern两种rule)。以及double pattern也分种类,是SADP还是LELE,LELE里面又分with/without stitching,有了这些信息可能比较好理解些。

PS.我还是小菜狗!
发表于 2021-8-13 07:39:25 | 显示全部楼层
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