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[资料] ASML below 14nm EUV Lithography (EUV 光刻设备)

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发表于 2019-10-21 17:04:50 | 显示全部楼层 |阅读模式

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ASML Lithography

Zeiss High NA Optics fpr ASML Lithography
Cymer EUV Power Source


http://neoblackpanther.com/optics.html

http://neoblackpanther.com/optics/Cymer_EUV_SOURCE2.pdf
http://neoblackpanther.com/optics/ASML-EUV-High-NA-1.5nm.pdf



发表于 2019-10-21 20:12:18 | 显示全部楼层
多谢楼主,分享超棒的资料,感谢
 楼主| 发表于 2019-10-22 06:42:01 | 显示全部楼层
14nm以下的光刻是中国最薄弱的区域。没有这样的国内产品。国内产品仅适用于90nm光刻。有必要呼吁国家努力开发这种设备。光刻是集成电路制造中最困难也是最重要的方面
发表于 2019-11-12 15:56:15 | 显示全部楼层
多谢楼主
发表于 2019-12-22 19:40:39 来自手机 | 显示全部楼层
谢谢楼主分享
发表于 2020-4-9 23:21:10 | 显示全部楼层
感谢分享,好好学习,天天向上
发表于 2020-4-13 13:58:03 | 显示全部楼层
多谢楼主
发表于 2020-6-7 08:26:04 | 显示全部楼层
gooooooooooooood
发表于 2021-12-22 09:19:02 | 显示全部楼层
谢谢
发表于 2021-12-23 21:12:19 | 显示全部楼层
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