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楼主: fun69

[原创] 40nm以及以下工艺出现的MOSCAP latch-up触发机制及防护

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发表于 2013-12-2 10:29:44 | 显示全部楼层
在哪家流片的foundry就去找哪家的人,这个应该是最快的方式
发表于 2013-12-2 10:37:27 | 显示全部楼层
回复 10# fun69 可否详细描述一下坏点周围的情况:
  • 周围有没有i/o或者powermos, 在升压时是否会出现pn结正偏或者有噪声注入到衬底?
  • MOSCAP是NMOS CAP, N region是否接到GND, 如果接到GND, N region与NWELL的间距是多少
  • 坏点什么样子,是否可以把照片发出来给大家看看
看到团片,大家在一起分析触发机制,一起找解决方案,谢谢
 楼主| 发表于 2013-12-2 10:54:18 | 显示全部楼层
对方给不出明确答案,敷衍了事!
 楼主| 发表于 2013-12-2 10:55:40 | 显示全部楼层
难道这里没人做过40nm的项目吗?你们没遇到类似问题吗?
发表于 2013-12-2 11:14:10 | 显示全部楼层
给你短消息了,我发的帖子还没通过审核
发表于 2013-12-2 11:14:38 | 显示全部楼层
1.坏点周围有没有I/O或者POWERMOS, 有没有可能PN正偏或者其他机制向衬底注入电流
2.MOSCAP是nmos么,N REGION是否接到GND, N rigion与NWELL的space
3.坏点图片可否分享下
 楼主| 发表于 2013-12-2 16:46:56 | 显示全部楼层
本帖最后由 fun69 于 2013-12-2 16:48 编辑

回复 16# jian1712


手头只有这两张图,NMOSCAP单元里没有PICKUP, TIE CELL 是每隔30UM加的!
aa.jpg
bb.jpg
发表于 2013-12-2 17:35:20 | 显示全部楼层
Fun69,
1.坏点周围有没有I/O或者POWERMOS, 有没有可能PN正偏或者其他机制向衬底注入电流
2.MOSCAP是nmos么,N REGION是否接到GND, N region与NWELL的space
发表于 2014-12-13 11:19:22 | 显示全部楼层
回复 1# fun69


   电容太大,电容上的电压波动会产生c*dv/dt的电流,latch-up本身就是大电流问题。因此moscap的电流会影响周围电路发生latch-up。
发表于 2014-12-13 12:54:50 | 显示全部楼层
謝謝!!!!!
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