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[求助] SRAM的latch-up问题,gd ring怎么包?

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发表于 2012-12-19 12:29:11 | 显示全部楼层 |阅读模式

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一般的MCU电路中,SRAM都会偷规则,比如长长的一条N-well只有两头打N+孔,衬底也是长长的两端就打P+孔。
几个电路的Latch-up都不好,EMMI发现电流出现SRAM那里。
请教各位高手:
1、SRAM包环有无作用?
2、SRAM包环是N+在内、P+在外还是P+在内、N+在外?是不是一个P+包环就可以?
发表于 2012-12-19 23:38:30 | 显示全部楼层
回复 1# limenglm
能否清楚的描述一下你遇到的问题,坏点周围有没有I/O模块,坏点是在正常工作下出发latchup造成的,还是latchup测试时造成的。谢谢
 楼主| 发表于 2012-12-20 08:56:17 | 显示全部楼层
回复 2# jian1712


电路1:在latch-up测试时发现P1.2、P1.3(见下图)过不了100mA,而该IO距离SRAM很近(35um,0.18工艺),EMMI时电流点在SRAM处。
仔细看该SRAM,没有任何包环。
电路2:SRAM有包环,N+在内,P+在外,但跟SRAM离的最近的IO的latch-up测试仍不好。

通过对很多电路进行测试,发现以下规律:
1、PAD与SRAM的正面距离越远,latch-up性能越好。
2、PAD在SRAM侧面的latch-up性能高于在SRAM正面。






 楼主| 发表于 2012-12-20 09:08:06 | 显示全部楼层
回复 2# jian1712


    也请版主看下PAD结构图,看看有什么不合理的地方,对ESD和latch-up有什么影响。
电路1中,我在NMOS保护管旁边空余的地方放了两个NMOS电容(VDD对VSS),本想增加电源的可靠性,但后来发现整体的latch-up都偏弱了。
我总结是:增加的这两个NMOS电容减小了寄生PNPN结构中PNP管P+的宽度、缩短了集电极到发射极的距离,都相当于增大了NPN管的放大系数,容易造成latch-up性能偏弱。
   
发表于 2012-12-20 10:07:48 | 显示全部楼层
回复 4# limenglm

不知道我的理解对不对?
 楼主| 发表于 2012-12-20 12:35:24 | 显示全部楼层
回复 5# jian1712


    您的理解很对。
现在latch-up的标准都要求200mA。
发表于 2012-12-20 16:22:50 | 显示全部楼层
回复 6# limenglm
可否放大看看sram区域的接触孔如何打得,最好能够有个尺寸。
拙见而已,欢迎指正,谢谢。
发表于 2012-12-20 16:27:08 | 显示全部楼层
回复 6# limenglm
其实可以在Sram区域加guardring,但是对于中间部分看到的衬底电阻还是很大,所以几乎没有什么用,不知道你们用的什么工艺,如果有nbl和hvnw,可以把这个部分隔离起来,问题或许就解决了。

拙见而已,欢迎指正。谢谢。
 楼主| 发表于 2012-12-20 17:06:49 | 显示全部楼层
回复 7# jian1712



SRAM单元一条长77um,只有两头有打孔;
工艺是GSMC0.18;
针对P1.2和P1.3的latch-up问题,我们在P1.2和P1.3这两个IO和SRAM中间,通过改版加入两圈P+ guard ring。
一丝半会还回不来呢。

多谢您的回复,我再多看点资料,继续研究
发表于 2012-12-20 17:17:36 | 显示全部楼层
回复 9# limenglm
拿到结果后发上来给大家分享下。
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