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[求助] 新手画版图求教

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发表于 2018-4-30 17:19:14 | 显示全部楼层 |阅读模式

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我画的是一个恒定跨导偏置电路。电路画完后,直接导入版图中。电路元器件之间的链接是没有错误的。做DRC检查时总会显示两个错误,不知道什么意思。我用的是0.18UM(微米)的工艺,一个是Minimum NW spacing for non-equal potential is 1.4.我的理解是NW上面所加的电位不同时,两个NW之间要间隔1.4UM。但我的原理图中NW接的都是VDD。是不是我的版图中漏画了什么。另一个错误是Max spacing of any point inside the source/drain area to the nearest pickup in the same well is 30UM.之前也遇到过,后来不知道怎么就解决了,好像是把版图中的VDD和VSS添加上就好了。我的电路图和版图都在附件中,这个问题想了好久,请大家给与指教,谢谢。
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发表于 2018-4-30 20:24:32 | 显示全部楼层
本帖最后由 powerboy711 于 2018-4-30 20:39 编辑

电阻随意

电阻随意
1.既然是相同电位的NWELL,那么你所有的PMOS可以画在一个NWELL里,即将分立的nwell合并,并在这个nwell做环型电位接触.同样NMOS整体也应该做环型衬底接触。
2.第二条drc错误,版图中的PMOS,和nmos的衬底接触距离器件本身太远,规则中要求小于30um,应该要遵循设计规则,版图还有可以改善的地方。
发表于 2018-5-2 09:09:15 | 显示全部楼层
他这里的第二条错误应该是NW没有NW接触吧
发表于 2018-5-2 09:43:11 | 显示全部楼层
2L正解
发表于 2018-5-2 09:55:49 | 显示全部楼层
听2楼的
 楼主| 发表于 2018-5-3 16:00:04 | 显示全部楼层
回复 2# powerboy711


   谢谢指教
 楼主| 发表于 2018-5-3 16:24:13 | 显示全部楼层
回复 2# powerboy711


   谢谢你上次的指教。我的DRC修改完后没有错误了,但是LVS出现了一个错误不知道怎么改,想再请教你一下。   那个结果是表明我的连法有错误,还是表明软件哪儿没设置好。
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Screenshot-1.png
发表于 2018-5-3 16:41:22 | 显示全部楼层
你看一下LVSrunset的使用手册,应该是少了个子文件,添加进去就好了
发表于 2018-5-4 13:13:10 | 显示全部楼层
应该是rppolyu3没定义,自己在网表里定义一下:
.SUBCKT rppolyu3 POS NEG SUB
.ENDS
发表于 2018-5-4 13:14:24 | 显示全部楼层
回复 7# szdxgaowei


   应该是rppolyu3没定义,自己定义一下添加在网表里:

.SUBCKT rppolyu3 POS NEG SUB
.ENDS
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