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[求助] 关于wellbody层

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发表于 2012-3-20 22:16:47 | 显示全部楼层 |阅读模式

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我现在用的是tsmc018的工艺,我学习别人画版图,看见许多管子都用一个大的wellbody层把他们全部覆盖(DRC LVS都能过),比如一个D触发器,就用了一个大的矩形把pmos和nmos都包完,但是我调一个管子的pcell来画时,只有管子的有效栅区才覆盖了wellbody层,那么像别人那样用一个大的wellbody层来覆盖所有的管子(当然也就覆盖了有源区)有没有什么流片的隐患啊?有人遇见过这种情况么? 而wellbody层的作用说的是用来定义栅区的
发表于 2012-3-21 08:36:24 | 显示全部楼层
没用过这个工艺 围观。。
发表于 2012-3-21 11:06:39 | 显示全部楼层
wellbody
應該是 PDK 產生的
CAD 用
和 mask 較無相關
发表于 2012-3-21 11:54:24 | 显示全部楼层
不是mask层。没有任何隐患,放心
 楼主| 发表于 2012-3-21 12:25:30 | 显示全部楼层
那太好了,我也可以拉一大片把管子框起来而不用一个一个去画了,谢谢
发表于 2017-10-18 15:43:51 | 显示全部楼层
想请问NMOS DNW的wellbody是做舍么用的?  不加可以吗?
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